磁控溅射镀膜设备是集直流磁控溅射、中频磁控溅射和多弧离子三种技术融合一体的,可适应广泛镀膜靶材,无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜和成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性等特点。可以镀金属膜,还可以镀氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、氧化钛、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多种膜层。
全SUS304优质不锈钢机身,隐藏式双层冷却水套设计
合理配备多套全新研制的离子弧源,有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性。
采用多路进气系统,精准控制气体流量,满足您多种化合物膜层需求。
结合脉冲偏压技术,极大提高电粒子能量,从而获得优秀的膜层结合力和光洁度。
该设备主要广泛应用于:五金产品、玻璃工艺品、陶瓷工艺品,如卫浴产品、手表钟表、刀具、模具、水晶玻璃、高尔夫球具、灯具、眼镜框架、瓷砖地板砖等等。
可加工的材料包括:不锈钢、铜、铁、锌合金、铝、ABS、玻璃、陶瓷等。
可镀基材表面状态:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴等。
镀制颜色有:半透明、金、银、玫瑰金、黑、深黑、绿、蓝、紫、七彩等。
肖先生: 0086-13646627677
型号 |
HY-1214 |
HY-1416 |
HY-1618 |
真空室尺寸 |
Ø1200*1400mm |
Ø1400*1600mm |
Ø1600*1800mm |
真空室结构 |
立式单开门 |
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镀膜方式 |
离子配偏压技术 |
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极限真空 |
8.0*10-4Pa (空载) |
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抽气时间 |
空载大气抽至5.0*10-2Pa小于15分钟 |
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焊材类型 |
钛靶、铬靶、锆靶、铁靶、钛铝靶,各种中频靶、直流靶等 |
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镀膜颜色 |
半透明、金、银、玫瑰金、黑、绿、蓝、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等 |
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控制方式 |
全自动,半自动,手动 PLC触摸屏控制 |
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特殊要求 |
按客户特殊工艺要求定制 |
产量大
6/8轴转架,高效提升产量
成本低
单个产品镀膜成本低
速度快
单批次处理时间短
操作简单
全自动化,易于操作
完全环保
绿色无污染生产
远程控制
远程诊断和检测