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真空镀膜和光学镀膜的区别
发布时间:2022-06-20
真空镀膜和光学镀膜的区别
1、真空镀膜:
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控制等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了薄膜制备的新工艺。简单地说，就是将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使其被涂在物体(称为基板、基板或基体)上的凝固和沉积方法，称为真空镀膜。
真空镀膜是相对于上述湿式镀膜方法而发展起来的一种新的镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
2、光学涂层:
光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺。光学零件表面涂层的目的是为了减少或增加对光线的反射、分束、分色、过滤、偏振等要求。常用的涂布方法有真空涂布(一种物理涂布)和化学涂布。
光学镀膜是一种物理或化学方法，在材料表面涂上一层透明的电解质膜，或涂上一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
三、从上面可以了解到，真空镀膜与光学镀膜的区别有以下两点:
1. 真空镀膜是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频、磁控等一系列新技术。光学镀膜是一种物理或化学方法，在材料表面涂上一层透明的电解质膜，或一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
2、真空镀膜是真空应用领域，而光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺。
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