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真空镀膜机镀膜过程中，常见的几种离子源
发布时间:2022-05-16
真空镀膜机镀膜过程中，常见的几种离子源
为了提高工件的附着力、结合力、膜结构，许多真空镀膜机在镀膜过程中都配备了离子源。
虽然离子源有许多类型，但其目的无非是在线清洗，改善镀表面的能量分布和调制以增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体之间的结合强度，也可以提高膜本身的硬度和耐磨性。如果电镀工具的耐磨层一般较厚，且膜厚均匀性不高，可以采用离子电流较大、能级较高的离子源，如霍尔离子源或阳极离子源。
阳极层离子源，原理类似霍尔离子源。环形(矩形或圆形)窄缝外加增强磁场，在阳极的作用下使工作气体电离并发射到工件上。阳极层离子源可以制成非常大和长，特别适用于建筑玻璃等大型零件的电镀。阳极层离子源离子电流也较大。但是，离子流是发散的，能级分布太宽。一般适用于大型工件、玻璃、耐磨、装饰工件。但在先进光学涂层中的应用并不多。
该真空镀膜机配备霍尔离子源，阳极与强轴向磁场协同使工艺气体电离。这种轴向磁场的强烈不平衡将气体离子分离，形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。一种常见的中和源是钨丝(阴极)。
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